二手 JEOL JBX-5500FS #293775451 待售
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ID: 293775451
优质的: 2013
E-Beam lithography system
Electron emitter: TFE (ZrO/W)
Acceleration voltage: 50 keV
Beam current: 30 pA - 20 nA
Field size: 100 µm, 1000 µm
Beam scanning speed: 12 MHz
Manual loader
Wafer holder, 4"
XY Stage
Dry pump
Vacuum pump
Valves
Clean Dry Air (CDA)
Beam shape: Circular spot
Gas: SF6
Stage movement: 104 x 75 mm
Emitter non-functional
Cooling water system:
Flow rate: 6 L/min
Pressure: 0.15 to 0.5 MPa
Temperature: 15° to 32°C
Writing modes:
Accelerating voltage / Objective lens / Maximum write field size / Minimum E-Beam size
25 kV / 4th Lens / 2000 x 2000 µm² / 10 nm
50 kV / 4th Lens / 1000 x 1000 µm² / 5 nm
25 kV / 5th Lens / 200 x 200 µm² / 1 nm
50 kV / 5th Lens / 100 x 100 µm² / 0.5 nm
(3) Cassettes:
BX-Z12016TMPC/S
BX-Z12017TMPC/S
BX-Z0714507W2T
Liquid crystal display
Hard Disk Drive (HDD)
Workstation
PC
Operating system: Windows XP
Manuals included
Power supply: 100-200 VAC, 50/60 Hz
2013 vintage.
JEOL JBX-5500FS是一款前沿扫描电子显微镜（SEM），在高分辨率成像、精确制图、先进纳米加工能力等方面设定了新标准。该仪器专为材料科学、半导体研究、生物工程和纳米技术等多种应用而设计。JEOL JBX-5500 FS的核心是其电子光学设备，该设备装有场发射电子枪，能够产生具有亚纳米分辨率的高度聚焦电子束。这使得显微镜能够实现卓越的成像性能，以惊人的清晰度和精确度捕捉到详细的表面地形和超细结构。高亮度电子源还允许增强信号检测和灵敏度，使其成为低对比度或低原子序数元素成像样品的理想选择。JBX-5500FS的一个关键特征是它的多用途制图能力，这是通过使用高精度电子束光刻系统实现的。此功能使研究人员能够在分辨率低于10 nm的各种基板上创建定制设计的纳米结构和图桉。该仪器支持多种光刻模式，包括直接书写、接近和投影光刻，使用户能够灵活地根据自己的具体需要量身定制其制图方法。借助先进的自动化和控制系统,JBX-5500 FS提供了一个用户友好的界面,可简化操作并确保实验过程中的可重复性。显微镜配备了用于图像采集、分析和数据处理的精密软件工具，使用户能够快速生成高质量的图像，并获得对其样本的宝贵见解。此外,该单元的直观编程功能可轻松创建复杂的光刻图样,从而促进快速原型设计和高效的设备制造。在纳米加工能力方面，JEOL JBX-5500FS擅长生产高长宽比和精确尺寸的复杂纳米结构。机器可以沉积和蚀刻多种材料，包括金属、聚合物和氧化物，使研究人员能够为广泛的应用创造复杂的三维结构。此外,显微镜在制造过程中支持现场监控和实时反馈,确保对特征大小、形状和对齐方式的准确控制。JEOL JBX-5500 FS还配备了一系列先进的成像和分析技术，以增强其多功能性和功能。其中包括用于元素分析的能量色散X射线光谱（EDS）、用于晶体学表征的电子反向散射衍射（EBSD）和用于研究材料光学性质的阴极发光（CL）。通过将这些成像模式与其高分辨率成像和光刻能力相结合，显微镜为用户提供了一套全面的工具，用于深入的样品表征和操作。总体而言，JBX-5500FS是一种最先进的扫描电子显微镜，它体现了精度、性能和多功能性。其先进的电子光学、高分辨率成像、精确的图样和精密的纳米加工能力，使其成为从事多种科学技术领域工作的研究人员和工程师不可或缺的工具。无论是研究纳米级现象、制造定制纳米结构还是表征先进材料，JBX-5500 FS都能提供无与伦比的成像质量和分析能力，推动纳米科学的创新和发现。
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