二手 LEICA MICROSYSTEMS EBPG 5000 Plus #9228860 待售
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ID: 9228860
Electron beam lithography system
Beam generation:
Cathode: Thermal field emitter (TFE)
Schottky emitter (SE)
Beam deflection:
Method: Spot beam recorder, vector scan
Large field: 1,000 x 1,000 lbs gm2
Addressing: 20 bits main field, 14 bits sub field
Minimum address increm: 1 nm
Maximum frequency: 50 MHz
Automatic corrections
Stage:
Laser interferometer: 1024 (~0.6 nm)
Writing area: 150 x 150 mm^2
Substrate size: Up to 6"
Miscellaneous
Cassette: 10 Positions
Mechanical steaming system: Piezo active
Operating system: Linux Redhat 5
Pre-alignment microscope
Size / Thickness
3" Square / Mask / 60 mil / 2.5 mm
4" Square / Mask / 60 mil / 2.5 mm
5" Square / Mask / 90 mil / 2.5 mm
6" Square / Mask / 250 mil / 6.35 mm
3"-5" Square / Mask / 60 mil / 2.5 mm
2" Round / GaAs wafer / 300 µm – 500 µm / 1,0 mm
3" Round / GaAs wafer / 500 µm / 1.0 mm
36 m Square / GaAs wafer / 500 µm / 1.0 mm
4" Round / Si wafer / 500 µm / 2 mm
4" Round / GaAs wafer / 600 µm – 700 µm
6" Round / GaAs wafer / 600 µm – 700 µm
Power supply:
High voltage: 20, 50, 100 kV.
LEICA MICROSYSTEMS EBPG 5000 Plus扫描电子显微镜是现代显微镜中的领先仪器。它具有高分辨率成像能力，具有一系列特征，可以进行精确的观察和测量。EBPG 5000 Plus使用电子束对正在研究的样品进行扫描成像，电子光学设备提供出色的图像清晰度、分辨率和聚焦深度。LEICA MICROSYSTEMS EBPG 5000 Plus包括提供图像处理功能的先进软件,如表面渲染和样品的3D重建。此高级软件还允许处理图像属性,如亮度、对比度、缩放和分辨率。图像的进一步分析可以通过软件工具实现，包括粒子分析、粒径和厚度测量。EBPG 5000 Plus还包括几个硬件组件，包括列内SE探测器、ESEM探测器、ESEM/Q传感器和双枪系统。列内SE探测器能够获得高放大倍率和高分辨率的图像，而双枪单元则能够同时成像两个不同的电子发射。ESEM检测器检测二次电子，用于对非导电样品进行成像，如生物物质，而ESEM/Q传感器则提高了大面积的分辨率和对比度。LEICA MICROSYSTEMS EBPG 5000 Plus也有真空机提供电子显微镜操作所需的真空环境。该工具对气体具有耐受性，因此可用于研究包括大气敏感样品在内的多种样品。真空抽水设备还提供了真空外壳的最小振动，能够以高分辨率和鲜明对比度拍摄图像。总体而言，EBPG 5000 Plus扫描电子显微镜是显微镜的强大工具，使研究人员能够以高分辨率、准确率和速度观察和测量材料。它的各种特征和组成部分允许对标本进行广泛的分析和检查，使其成为实验室和研究环境的理想选择。
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