二手 NANOBEAM nB5 #293648795 待售

ID: 293648795
E-Beam lithography system Beam size: 2.1 nm, 100 keV, 7 nA Metal lift off line width: <20 nm Address grid resolution: 1 nm, 1nm main field Beam voltage: 30 to 100 keV Writing area: 195 x 195 mm.
NANOBEAM nB5是一种高性能扫描电子显微镜(SEM),旨在提供更高精度和精确度的研发。它提供高分辨率成像的样品小到1纳米跨越和特点的最新电子束工程。nB5创新的NANOBEAM设计由先进的电子控制设备提供动力,这是由于电子光学技术和微调算法取得了突破性的进步。该系统允许以前所未有的精度对样品进行高速成像。NANOBEAM nB5的最大分辨率为0.1纳米,提供了其他更传统的SEM无法获得的成像精度。NB5拥有专用的5轴电动舞台,使用户能够自动扫描样本并创建可重复的图像。先进的电机控制算法保证了最佳扫描性能和无缝集成的样本观察和控制策略。这些功能大大减少了扫描样本所需的时间,并使生成复杂图像的过程自动化。NANOBEAM nB5配备了允许快速样品装卸的双轴级和可调电子束单元,可调整为不同成分的最佳成像样品。除了高分辨率成像之外,nB5还可以利用其最先进的能量色散X射线光谱仪来分析纳米级样品的元素组成。该EDX工具在实时测量样品组成时提供了更高的检测灵敏度和高精度。NANOBEAM nB5还能够进行实时图像处理和分析评估,这要归功于其通用软件。此软件可用于分析各种样本,同时帮助简化分析并减少样品处理所需的时间。总体而言,nB5 SEM为材料研发提供了前所未有的精确度和精确度,使其成为广泛应用的理想工具。
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