二手 PHILIPS / FEI XL 860 #189226 待售

ID: 189226
Dual ion beam system Electron beam: 3nm 1-30kV beam voltage Ion beam: 7nm in second electron mode, 30kV beam voltage Full digital control: Microsoft Win NT Chamber: Can handle both wafers and small samples Stage accuracy: 1.5um over 8" wafers FE-SEM with in-lens detection (2) GIS installed Oxford EDS Edward QDP dry pump.
PHILIPS/FEI XL 860是一种最先进的扫描电子显微镜(SEM),设计用于高分辨率成像和分析。它配备了通用影像平台(UIP)的定制版本,提供卓越的性能和数据质量。该设备能够提供一系列半导体成像和表征应用,包括微观结构成像、临界尺寸测量、高分辨率成像和电子探针微观分析。FEI XL 860具有宽视野(最大30毫米),以及从5 x到500,000 x的宽放大倍数。这使得成像和测量的精度和精确度都很高。该系统还配备了先进的导航单元,对成像位置提供优越的控制。这台机器使用两个相同的电子柱,允许同时成像两个柱。PHILIPS XL 860有一个集成的能量色散(ED)X射线探测器,可以识别广泛的元素。X射线分析可以用来确定样品中某些元素除了组成之外的分布。这使用户能够了解样品的物理和化学特性。XL 860凭借其功能强大且可定制的软件平台,还能够支持3D映像应用程序。3D渲染图像为用户提供了前所未有的详细程度和准确性。这些图像有助于识别常规成像无法看到的特征,例如精细的表面特征。PHILIPS/FEI XL 860还配有种类繁多的配件,以提升其性能。其中包括镜头、对焦锁、分析仪、晶片和样品支架的选择。该工具还可与一系列高端计算机硬件和外围设备配合使用,以确保优化性能。总体而言,FEI XL 860是一款功能强大、用途广泛的成像和分析工具。其先进的UIP软件、多个成像列和广泛的功能使其成为一系列SEM应用程序的理想选择。此资产为用户提供了最高级别的信息和控制,使他们能够最大限度地发挥SEM的潜力。
还没有评论