二手 RAITH / PREMTEK eLine #9382216 待售
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ID: 9382216
E-Beam lithography system
Upgraded to PERIODIX
PC
Laser stage
Lithography and nano-engineering workstation
Universal sample holder: Up 2" square
Pico ampere meter with IEEE-interface
CCD Camera
Electron beam lithography starter kit
Manual included
Precision optical microscope with illumination
Precision 1x imaging optics
Projection corrected optical arrangement
Mounting and alignment set
Optimized illumination LED with optics
High resolution CCD Camera
Frame grabber
Fixed beam moving stage lithography module
Wafer carrier, 3"
Mask carrier, 4"
Automated height sensor
Manual load lock: Up to 100 x 100 mm
With high vacuum gate valve
Control electronics
Oil free pumping system
Filament
Operating system: Windows 7.
RAITH/PREMTEK eLine是一种扫描电子显微镜（SEM），广泛用于研发和工业应用。它旨在为各种样品材料，包括金属、半导体和绝缘材料提供清晰的成像和高表面分辨率。SEM由四个主要组件组成--离子柱、电子源、消光枪和级。离子柱用于聚焦和检测电子束。它由高度稳定的Nikasil静电涂层制成，有助于减少热量损失，保持光束电流一致。电子源产生一束电子束，由电磁线圈和源内的磁体引导。消光枪用于降低电子束强度的水平，该级用于样品操作。RAITH eLine是一种先进的设备,可提供高精度的成像和分析。它带有反向散射电子成像（BSE）、快速扫描SE（FSSE）、低压SE（LVSE）、二次电子显微镜（SEM）等先进的成像和分析能力。BSE用于表征样品的地形特征，而FSSE用于捕捉动态过程的超快速成像。LVSE用于生成电子束与样品相互作用的高分辨率图像，而SEM可以使用电子束生成高分辨率图像。PREMTEK eLine还具有多种内置功能，如用于样品处理的倾斜阶段、微观区域成像、自动送样器、真空系统和自动模式识别单元。模式识别机允许自动识别样品表面的缺陷和特征。它能够达到1nm以下的分辨率。它的放大倍率范围很广,从5倍到500,000倍,可以检查极小的特征。此外,它的高吞吐量允许快速的图像收集和分析。ELine是需要可靠准确的SEM工具的研究人员和专业人员的理想选择。RAITH/PREMTEK eLine具有先进的成像和分析功能、内置功能以及高放大倍率和分辨率,是广泛应用的理想选择。
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