二手 AJA ATC 3400-V #9213688 待售

AJA ATC 3400-V是为高DOI薄膜应用而设计的高性能溅射设备。该系统利用电子束蒸发技术，以高速率有效溅射复合氧化铝薄膜。它采用两种高性能离子源，产生均匀的高密度等离子体，并提供优越的均匀沉积速率，提供优越且经济高效的沉积控制。该单元可以垂直或水平配置操作，设计为与直流（DC）和交流电（AC）操作兼容。ATC 3400-V提供自动化的过程监测和控制,以及先进的离子束分析（IBA）技术,能够测量元素分布和晶粒尺寸,以及测量薄膜内的晶粒尺寸分布。该机为溅射提供了六种标准目标选择--Al-Ni目标、Al-SiC目标、Ni@@-C目标、Al-Ta目标、Al-Sn目标和Al-Cu目标。此外，该工具还提供了一种外部气体资产，可用于溅射α-Al2O3、β-Al2O3和TiO2。该模型还包括一个在线服务监视器，该监视器可以识别溅射过程中的异常并诊断问题，然后才能损坏薄膜。AJA ATC 3400-V工作环境温度范围为4°C至40°C，相对湿度范围为0%-85%。它提供了两个加热负载锁，可以容纳直径达十二英寸的基板。ATC 3400-V的坚固设计提供高达20 μ m/min的高沉积速率，确保适合大批量生产。AJA ATC 3400-V的设计考虑到安全性,具有物理和电子安全功能。设备包括一个安全存储模块和一个E-STOP交换机,可在需要时快速轻松地关闭系统。此外,该设备还能够通过远程网络进行控制,在操作机器时无需在同一位置进行操作,从而让您放心。总之，ATC 3400-V是一种适用于生产高DOI薄膜的高性能溅射工具。它提供了监测和控制沉积速率的自动化过程，以及一系列高性能离子源和目标选项。它还设计了坚固的组件，以实现较高的沉积速率，并具有安全功能，以实现安心。