二手 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER SCM 650 #9258696 待售
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ID: 9258696
Sputtering system
RF/DC Sputtering
Ionic cleaning
Cathodes: (2) Magnetron targets, 8"
Substrate transport load lock: 6" Diameter substrates
Substrate holder:
(4) Stations
(6) Indexed positions
(4) Transfers with (2) sputtering positions
Rotation: 1 to 30 RPM
Vertical translation: 50 to 100 mm
Shutter: 1 3/4 Automatic shutter
Generators:
RF Generator: 2000W For the targets 1 and 2 and substrate holder
DC Generator: 3000W For the targets 1 and 2
(2) Gas lines.
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER SCM 650是一款先进的全功能溅射设备,具有可变高压电源和强大的控制,以实现并保持准确的沉积过程。这种最先进的PVD系统是为薄膜的工业沉积而设计的,非常适合光学涂层和磁数据存储应用。ADIXEN SCM 650由高效的高压电源、精确的磁滤波器和全尺寸的溅射室组成。该室设计用于最佳的热管理,并包含一个强大的均匀磁场极精确的薄膜沉积。高效高压电源为薄膜真空沉积提供强大、精确、一致的电源。电源能够在高达2.5kV的高电压下运行,并提供从0.5kW到20kW的溅射电源(群集配置)。电源还允许随时间和温度水平的控制曲线变化功率。ALCATEL SCM 650的精确磁滤器有助于通过滤除大气中的杂质来确保均匀的溅射过程。磁滤镜还保持膜沉积的均匀性,在基板上产生均匀的薄膜。PFEIFFER SCM 650配备了多种特性,以最大限度地实现均匀性和过程控制。它有一个内部晶片监控单元,一个精确的开关机,一个温度控制器和一个氧气监控器。它还提供了先进的等离子体控制系统,如多区域气体分配工具和双气体喷射器。气体注入资产允许使用温度控制的阳极和阴极对气体流动和温度控制进行精确控制。SCM 650是用于光学薄膜涂层和磁性数据存储介质等高精度薄膜沉积的理想模型。它为均匀、一致的薄膜沉积提供了一致、精确、高效的溅射。完全集成的设备为可靠和准确的过程提供了有效和精确的控制。
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