二手 ALCATEL / MEIVAC HEDA 2460 #9233936 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 9233936
优质的: 1994
Sputter deposition system
RF Diode, 17"
Batch load
Throughput:
Overhead for wafer load: 2 Hrs
Pumping and venting plus deposition time: 3+ Microns / Hour
Wafer capacity:
(20) 3" Rounds
(12) 4" Rounds
(9) 5" rounds
(5) 6" rounds
Ultimate pressure: 2 x 10^-7 Torr
Sputtering process: RF Diode
Size, 17" square
Uniformity: 3% 1 Sigma (10 mm Edge exclusion)
1994 vintage.
ALCATEL/MEIVAC HEDA 2460是一种多功能溅射设备,设计用于将材料薄膜沉积在基板上。它是一种高通量溅射工具,能够生产均匀的薄膜沉积物,具有良好的台阶覆盖率和表面质量。MEIVAC HEDA 2460采用各种组件和功能,可精确控制溅射过程。ALCATEL HEDA 2460的中心是一个磁控管,内部磁铁在溅射源产生高磁场。这使得等离子体可以达到高达10,000 K的温度,从而实现高溅射速率。该系统还包括提供离子轰击和表面硬化膜的离子源。此外,该单元还提供了一个原位快门,允许沉积具有精确定义的厚度和特性的多层。机器还提供了一个可编程控制器,使用户能够为每个层精确定义沉积参数。这些包括脉冲宽度、功率水平和沉积频率,以满足任何特定的工艺要求。这确保了对沉积过程及其整体性能的最佳控制。控制器还监控沉积过程,提供关于溅射速率、均匀性和可重复性的反馈。这允许使用者快速调整参数,以确保沉积均匀,并预测沉积行为。HEDA 2460还提供了触摸屏显示屏,它提供了一个直观的界面来访问工具的所有功能和设置。这可以让用户方便地调整参数,监控沉积过程,储存配方和沉积配方以备将来使用。ALCATEL/MEIVAC HEDA 2460是复杂薄膜沉积工艺的最佳选择,提供了速度、灵活性和厚度的精确控制。这些特性使其成为一种经济高效的解决方桉,可在一系列应用中生产高性能溅射薄膜。
还没有评论