二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ATON 1600 #9018803 待售
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已售出
ID: 9018803
优质的: 2006
System
Application:
Coating method: MF Twin Mag Sputtering
Coating direction: sputter down
Coating influenced by gases
Electrical connection
3 phase, PE, N, AC 400 V, 50 Hz, Full-load-current: 986 A
Cycle time per carrier M01: ca. 60 sec.
Brut capacity (at 100% uptime): Aton: max. 5400 Wafer / h
Targets: Silicon M06 - Planar Twin Mag Cathode M08 - Rotatable Twin VAC - Mag Cathode
Gas: Ar - argon, N2 - nitrogen, NH3 - ammonia
Compressed air: pressure: 6 bar - 8 bar
Wafer: 150 mm x 80 mm
Carrier material: Carbon (CFC) 1800 mm x 920 mm, 90 Wafer / Carrier
Loader / Unloader / Carrier transport system: Jonas & Redmann
Retrofit: upgraded lock valve in 2008, upgraded cathode M08 to rotatable in 2011
Flooded with N2
Cooling water: emptied
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600溅射设备是一种功能强大、用途广泛的将薄膜涂覆到基板上的系统。它采用物理和化学气相沉积方法相结合，将金属、介电和半导体材料的薄层涂抹在晶圆、基板和其他组件上。它专为大批量生产和研究而设计,具有各种定制和灵活性选项。AMAT ATON 1600的腔室最大尺寸为600mm x 600mm x 250 mm，最多可容纳30个晶圆。它具有自动腔室清洗和晶片处理夹具，调整以适应工作的需要。它有一个8英寸的等离子体发生器，能够产生高达2000W的等离子体功率，并提供具有多种电极配置的单目标或多目标溅射。它还配置了薄膜监视器、电阻率监视器和晶圆温度传感器。增加负载锁可以使设备在冷却阶段不间断地运行,并缩短整个循环时间。该机可用于常规物理溅射、纳米涂层、反应性溅射、片状电阻和覆盖。其威力和柔韧性使其适合半导体、MEMS、金属化陶瓷、红外镜片等多种应用。该工具具有直观的图形用户界面、自动化的过程控制资产、电子束仪表，可以从单个位置进行远程监控和操作。高级流程控制选项包括配方编程、流程参数优化以及实时反馈和审核。该模型还能够进行诊断和临时实验。总体而言，APPLICED MATERIALS ATON 1600溅射设备是在基板上涂覆薄膜的先进、强大工具。其灵活的设计和先进的特点使其成为大批量生产和研究应用的理想之选。该系统设计高效、精确、可靠，使用户能够最大限度地提高薄膜涂层的质量和产量。
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