二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ATON 1600 #9248312 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600溅射设备是用于物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）的高度先进的通用工具。AMAT ATON 1600采用超高真空、最先进的技术以及先进的材料和工艺，达到沉积均匀性和可重复性的最高水平。APPLIED MATERIALS ATON 1600允许用户将两个或多个目标材料同时溅射到多个基板上。每个过程都通过专有系统独立控制，允许用户控制单独的过程参数，如腔室压力、目标功率、基板温度和气体流速。此外,ATON 1600允许在沉积和循环之间自动循环事件,使用户能够准确控制材料的制备、沉积和固化方式。AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600还利用了先进的离子束表面预处理技术，用于无机材料和类似金刚石的薄膜。这一创新技术涉及用高能离子束轰击基板（或单独的一块基板材料）。这会使物质在原子上变得无定形且具有很高的反应性。原子清洁的表面可以通过溅射或使用AMAT ATON 1600等离子体辅助沉积形成。这种高能溅射以及低能反应性离子蚀刻可用于获得超细厚度均匀性和提高步长覆盖率的高精度。利用这些无像差沉积技术，APPLIED MATERIALS ATON 1600使使用者即使在困难的底物上也能製造出极均匀的薄膜。ATON 1600还具有独特的双负载锁定配置,可以快速轻松地加载设备,同时提供恒定的真空完整性和高吞吐量。该机还具有先进的自动化等离子体辅助高密度等离子体源，用于高精度蚀刻工艺。AMAT/APPLIED MATERIALS ATON 1600还配备了集成致动器，可直接控制沉积过程中基板的旋转和定位。AMAT ATON 1600是光学薄膜沉积、硬盘存储介质、精密沉积、密封环沉积、多层堆栈等应用的理想工具。通过利用APPLICED MATERIALS ATON 1600提供的革命性技术和工艺,用户能够创造出高度均匀且具有出色阶梯覆盖范围的卓越薄膜沉积结果。