二手 AMAT / APPLIED MATERIALS NAR 1200L #9250995 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT NAR 1200L是一种高精度溅射设备,用于将材料薄膜沉积到诸如半导体晶圆之类的基板上。该系统便于生产计算机芯片等集成电路，这些集成电路在制造过程中需要层层的不同材料。具体而言，1200L是一个自动化的数字溅射沉积单元，可以在双托盘上工作，允许将不同的材料并行沉积到不同的基板上。这种溅射沉积机采用了先进的直接驱动设计，在这种设计中，溅射头直接由马达驱动，不使用任何轴承或密封，从而提高了刀具的可靠性和正常运行时间。1200L资产为12英寸模型，能够沉积大基质。通过将机器人技术集成到溅射沉积系统中，实现了晶圆的高效处理和更高的吞吐量。设备先进的低调溅射室设计确保了整个基板的高均匀性。该系统基于各种定制和市售的硬件和软件解决方桉构建,使客户能够选择满足其特定流程需求的最高效技术。它有一个单独的控制模块，通过控制真空水平、目标到基板距离等特性来优化溅射过程，同时保持过程的均匀性和重复性。1200L装置配备了强大的计算机控制溅射源，能够高速率沉积导电、绝缘、透明和半导体薄膜。它还能够为不同的流程和子流程定制单独的配方。此外，机器还有一个内部硬件，用于监控工艺条件和气体压力，以控制和提高工艺的可重复性。该工具还包括一个用于实时监控和可视化过程的高分辨率摄像机，以及一个就地电阻率监视器，该监视器对目前正在沉积的胶片特性提供反馈。AKT NAR 1200L溅射资产具有灵活、坚固和高性能的特点,是生产需要材料薄膜的集成电路的理想解决方桉。其双托盘设计允许并行沉积过程，其强大的沉积源使其能够生产出符合集成电路生产要求要求的高质量薄膜。