二手 AMCI GT7777 #89910 待售

AMCI GT7777溅射设备是薄膜沉积的综合系统解决方桉.它是一种可扩展、易于使用的工具,可用于薄膜沉积,用于开发和生产应用。GT7777是一个动态系统,它提供了卓越的过程控制和快速溅射效果,可实现经济高效的软件包。AMCI GT7777单元非常适合低批量生产、研发或试运行使用。GT7777溅射机采用了最新的技术和多用途的组件，以确保卓越的过程控制和卓越的性能。其组成部分包括高性能薄膜溅射源、用于蚀刻的大功率等离子体源、用于快速改变目标溅射材料的目标旋转木马、用于涂层的气体辅助溅射、强大的原位真空压力控制工具以及用于困难薄膜应用的可变功率微波等离子体源。此外,资产还具有许多自动化功能,包括自动目标溅射压力控制、适应性强的工艺配方、高级等离子体轮廓控制以及复杂的测量和分析工具。AMCI GT7777测量膜沉积特性的绝对精度.这个过程可以被仔细的监控和控制，允许重复的，一致的薄膜结果。该模型还提供了一个灵活的平台，允许用户将真空清洗、预溅射工艺、晶片边缘修剪、沉积后处理等工艺附加组件合并。GT 7777的精密设计允许灵活沉积多种薄膜材料，从简单的铝薄膜到复杂的合金和复合材料。该设备可以生产出满足多种应用要求的薄膜，包括平整度、均匀度和电气特性。AMCI GT7777易于使用且经济实惠,非常适合开发和生产应用。它专为快速轻松的设置而设计,在经济实惠的软件包中提供卓越的过程控制。该系统还在各种薄膜沉积应用中实现了快速准确的薄膜效果。