二手 ANATECH Hummer VIII #9249717 待售
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ID: 9249717
晶圆大小: 8"
Sputtering coater, 8"
(3) Target systems (2" in each triangle)
Pyrex chamber, 12"
Dual stage vacuum pump (Rebuilt)
(3) Sputter heads
(3) Sources for noble metals
Power consumption:
115 VAC, 60 Hz, 6 amps
220-250 VAC, 50 Hz, 3 amps
Output: 0-3000 Volts, 0-30 milliamps.
ANATECH Hummer VIII是一种溅射设备,设计用于将薄膜沉积到低温和高温基板上。它具有坚固、高度灵活的平台,能够沉积各种材料,包括氧化物、氮化物和金属。该系统还提供卓越的薄膜均匀性和可重复性,使其成为要求苛刻的应用程序的理想选择。悍马VIII包括一个高温基板室,能够达到高达800 °C的温度。这为用户提供了处理各种高温基板的能力,也使PECVD涂层得以使用。HuVII还提供了广泛的溅射目标,包括Si/SiO2和SiC/SiNx,以及介电和金属选项。该单元的一个特别有利的特点是可以选择配对或多目标配置,这样可以优化涂层工艺以生产具有特定特性的材料。ANATECH Hummer VIII包括广泛的工艺控制,可保持精确的沉积速率和厚度。这可以通过过程参数的组合来实现,包括气体流量、气体成分、压力、射频功率、溅射速率和温度。此外,HuVII还提供了对基板运动的自动控制,从而可以优化涂层参数。悍马VIII是创造高品质薄膜的理想机器,由于其坚固、高度灵活的平台和广泛的沉积特性。它非常适合多种应用,包括超导体、透明导体、电介质和磁光膜的沉积。此外,该工具可用于创建多层堆栈,从而允许创建特定的目标膜结构。所有这些特性使ANATECH Hummer VIII成为薄膜沉积的绝佳选择。
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