二手 ANATECH / TECHNICS HUMMER V #5717 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 5717
Manually controlled tabletop sputter system
Process: depositing a conductive coating for visualizing SEM samples
Sputter deposition process is more uniform and reproducible
Yields more adherent films with finer grains than in evaporation systems
A bell jar will be installed on the tool
Internal pump: Mitsubishi Elec. Super Line, single phase induction motor, type SP-NRF
No targets included.
ANATECH/TECHNICS HUMMER V是一种溅射设备,设计用于在平板基板上提供有机和无机材料的均匀层。它具有一个真空室和两个样品支架,最多四个源,多个过程气体,以及广泛的溅射和沉积参数。ANATECH HUMMER V利用倒磁控管技术(IMT),其中圆柱形线圈向溅射目标传递轴对称磁场,溅射材料收集在磁控管中间。与传统的直流溅射相比,IMT技术提供了更好的等离子体均匀性。此外,TECHNICS HUMMER V还具有低电流和低电压操作功能,从而可以更好地控制溅射过程。HUMMER V作为一种直流磁控管溅射系统,与其他溅射技术相比具有许多优点。最值得注意的是,低电流操作允许低应力植入,这可以显着改善材料对基材的附着力。此外,多气体输送装置提供快速、可重复的过程,每次结果一致。通过利用多种气体,溅射源能够提供反应性和非反应性溅射,从而能够沉积各种不同性质的材料。ANATECH/TECHNICS HUMMER V旨在提供广泛的操作参数和选项,允许各种应用程序。除了直流溅射机外,ANATECH HUMMER V还具有多离子源,能够创建植入材料的双峰和定制轮廓。通过利用多离子源,TECHNICS HUMMER V还可以沉积高贵和非高贵的层,以及复杂的多层结构。该工具旨在支持广泛的基板,包括硅、金属和其他材料系统。HUMMER V是任何需要在各种基板上沉积有机和无机材料层的应用的理想选择。由于其独特的离子源和低电流操作,ANATECH/TECHNICS HUMMER V可以提供具有改进的附着力和可重复过程的均匀层。凭借其广泛的操作参数,ANATECH HUMMER V是各种应用的绝佳资产,提供了以一致、均匀的层沉积各种材料的能力。
还没有评论