二手 ANATECH / TECHNICS RF-2C #9213270 待售

ANATECH/TECHNICS RF-2C是一种中真空溅射设备，专为薄膜沉积在基板上而设计。它用于金属、陶瓷和复合材料的精密沉积，借助真空室。ANATECH RF-2C溅射系统主要用于研究、薄膜沉积、表面工程和电子元件制造。TECHNICS RF-2C利用来自一系列真空产生模块的射频（RF）功率来创建强磁场。这种高效、经济高效的溅射工艺利用高频提高等离子体气体中离子的能级，并将其加速向目标表面，导致薄膜沉积均匀。因为它不需要高水平的真空，RF-2C需要不到其他溅射系统能量的三分之一。该装置装有三个磁控管：一个和两个双磁控管，其中包括钛靶和一个欧瑞康磁控管。ANATECH/TECHNICS RF-2C中还包括各种其他基板支架、工艺监测器和传感装置。该机器能够容纳各种类型和大小的基板和目标。欧瑞康磁控管等元件可以定制，以满足特定的应用要求。为确保对气流和沉积参数的精确控制，该工具配备了集成数字压力、耐压陶瓷棒、质量流量计和气体溷合面板的真空室。ANATECH RF-2C还配备了可编程的电力、温度和功率调节系统，使用户能够轻松监控和控制过程参数。最先进的TECHNICS RF-2C资产旨在最大限度地提高薄膜沉积的效率和准确性。其优良的控制特性保证了薄膜的均匀沉积，不会影响其质量或寿命。RF-2C是一个可靠和经济高效的溅射模型，非常适合研究和其他商业应用。