二手 BALZERS / EVATEC Clusterline 200 #9248388 待售

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ID: 9248388
晶圆大小: 6"
优质的: 2007
Physical vapor deposition system, 6" Can be configured for 4"-8" Supports thin wafers and warped wafers (6) Process modules: Degas module Au (gold) sputter Ti (titanium) sputter Ni (nickel) sputter Pd (palladium) sputter Ag (silver) sputter Includes: (2) Load lock cassette stations CTI-CRYOGENICS 9600 Compressors CTI-CRYOGENICS Cryo pumps on PVD chambers ADVANCED ENERGY Pinnacle DC power supplies (2) User interface stations: Front and rear Foreline vacuum pump Control rack: Power supplies Controllers AC Power distribution Signal light tower 2007 vintage.
BALZERS/EVATEC Clusterline 200是专门为工业、学术和研究应用而设计的溅射沉积设备。它由瑞士公司EVATEC开发,采用垂直配置,允许多种涂层配置。该系统由一组溅射源组成,可对大面积薄膜厚度均匀性进行更精确的控制。它的腔室可以被编程成创建任何种类的涂层,从高反射率层到更多的保护性涂层。EVATEC Clusterline 200还包括一个RF-couple等离子体源、一个用于沉积速率控制的光发射监测以及一个原位端点探测器。BALZERS Clusterline 200的多源配置提供了多种优势,包括卓越的附着力、均匀性和可重复性。它还提供了改进的工艺均匀性,使沉积较厚的层与厚度轮廓精确控制。此功能在材料选择方面提供了更大的灵活性,允许各种尺寸、材料、形状和地形。Clusterline 200的亚毫米精度允许更好的沉积结果,具有更平滑、更平坦甚至更平滑的表面。此外,由于其专利涂层技术,该装置减少了涂层厚度的不均匀性,这可能是由溅射颗粒引起的。其高温和基板加热能力,加上优化的气流,使得沉积具有高光学性能的薄膜成为可能。此外,该机器还配有多种不同沉积目标的电极。这意味着用户可以根据自己的要求选择最合适的材料,同时监视每个周期期间和之后的过程参数。BALZERS/EVATEC Clusterline 200非常易于使用,并且与一系列计算机友好的软件工具兼容。这允许用户远程监视和控制该工具,使他们能够访问精细的流程数据。维护资产确保沉积过程在整个操作过程中保持安全模式。EVATEC Clusterline 200保证了高质量的生产效果和更好的生产性能。
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