二手 BOSCH VS-24C #9097913 待售

製造商
BOSCH
模型
VS-24C
ID: 9097913
RF Magnetron deposition system Chamber (DxH): 24" x 12" Target: Aluminum oxide (Al2O3 ), 12" (5) Silicon wafer size tooling systems, 6" Dual instrument rack, 19" (2) CTI Cryo-Torr 8 Cryopumps, 8" Cable Conductance valve CTI 8300 Compressor with 8001 Controller Magnetron source with RF Match system, 14" MKS Vacuum gauge with valve and process control system Temperature and thickness control Electro pneumatically actuated valve VCS Vacuum system controller VSC RS-232 Sense analog and digital signal Does not include load lock RF Matching power supply: 2 kW Working hours: 2000 Hours.
BOSCH VS-24C是一种最先进的溅射设备,在各种研究和工业应用中为精确高效的薄膜沉积而设计。这一先进的系统利用溅射工艺,这一技术涉及用高能离子轰击目标材料,将原子喷射并沉积到基板上,从而制造出具有非凡均匀性和控制性的高质量薄膜。VS-24C提供了多种可定制的特性和功能,使其成为薄膜沉积的通用和可靠的工具。BOSCH VS-24C的主要优点之一是其优越的真空装置,这对于保持清洁稳定的沉积环境至关重要。该机配备了高性能真空泵和压力表,确保腔室内部的低压气氛,最大限度地减少污染物的存在,提高沉积膜的质量。真空工具还能够精确控制溅射过程参数,如压力和气体流速,以达到所需的薄膜性能。VS-24C的另一个重要特点是其先进的电源单元,它为溅射目标材料提供了必要的能量。该资产提供了广泛的电源设置和脉冲模式,允许用户根据自己的特定要求定制溅射过程。电源装置的设计是提供一致和均匀的溅射,导致高沉积速率和优秀的膜均匀性跨越大基板区域。BOSCH VS-24C还配备了可靠的目标持有人模型,可实现轻松快速的目标转换,最大限度地减少停机时间并提高生产率。设备支持各种目标材料,包括金属、氧化物和氮化物,允许用户沉积广泛的薄膜成分。目标持有者系统的设计具有稳定性和精确度,保证了目标材料的精确定位,以实现最佳的溅射性能。除了硬件功能外,VS-24C还具有用户友好的控制界面,可直观操作和监视溅射过程。该单元配有触摸屏显示屏和综合软件包,允许用户设置和调整沉积参数,监控实时过程数据,分析沉积结果。直观的界面为用户提供了创建自定义沉积配方和针对特定应用优化胶片属性的灵活性。总体而言,BOSCH VS-24C溅射机是一种精密可靠的薄膜沉积工具,提供卓越的性能、灵活性和易用性。无论是在研究实验室、学术机构还是工业设施中,这种先进的工具都非常适合广泛的薄膜沉积应用,包括光学涂层、半导体器件和磁性存储介质。凭借其创新的设计和先进的能力,VS-24C为溅射技术的精度和效率设定了新的标准。
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