二手 BOSCH VS24C #9097913 待售
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ID: 9097913
RF Magnetron Deposition System
Chamber: 24" dia x 12" H
Dual 19" instrument rack
CTI Cryo-Torr 8 Cryopump, side mounted, high conductance valve
CTI 8300 Compressor with 8001 controllers
RF power supply: 2kW, matching system as bias
(1) 14" Magnetron source with R match system, Al2O3 target
Vacuum gauges valve and process control systems
Temperature and thickness control
Electro pneumatically actuated valves
VCS vacuum system controller provides automatic valve sequencing, pressure readout, and executive control of process
VSC can sense analog and digital signals, RS-232.
BOSCH VS24C是一组用于各种薄膜沉积应用的溅射系统。该系统可用于将铝、铬、硅、钛、钼和钨等材料薄层沉积在基板和其他表面上。这些系统具有两个、四个或八个使用直流、脉冲极化直流和/或射频信号的大功率源。该设备还具有先进的精密薄膜沉积工艺控制功能.它对每一个源都有独立的电源控制，允许精确和可重复的沉积。此外，它的多枪特性使它能够在单个基板上沉积具有不同成分的多层薄膜。这样可以提高生产不同层时的精度。其加工室设计为提供均匀、均匀的沉积环境。它具有真空互连歧管，可以方便地连接到外部真空泵、歧管和其他辅助系统。这样可以实现快速高效的设置和配置。此外，它还具有涡轮分子泵，它允许较高的沉积室压力和更快的沉积时间。除了提供一致的性能外,VS24C还提供简单的操作。该系统包括一个数字液晶触摸屏显示屏，可以方便地监控流程参数和源设置。此外,它的快速参数输入和召回功能旨在简化脚本编写并增加灵活性。总体而言，BOSCH VS24C是一个功能强大且用途广泛的溅射装置。它具有先进的工艺控制、均匀的沉积环境和方便用户的控制，为各种薄膜沉积应用提供了可靠的方法。机器处理速度快，操作方便，非常适合任何研究或工业应用。
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