二手 CANON / ANELVA C-7100 #9153006 待售

CANON/ANELVA C-7100溅射设备是一种先进的薄膜沉积系统，用于在基板上沉积薄膜层。它用于制造薄膜光学和光电器件，如薄膜晶体管（TFT）。该单元具有多种沉积参数选择，如电源（DC、脉冲DC、射频）、目标暴露区域、目标组成等。该机设计用于处理直径达200毫米的基板，足以满足大多数工业应用。CANON C7100工具的构建是为了在经济高效的条件下提供优质的薄膜沉积工艺。利用多目标磁控管溅射源和高密度二极管溅射源两种溅射源。磁控管溅射源能够沉积电导率增强的薄膜.二极管溅射源具有较高的沉积速率和均匀性.两个溅射源可以用不同的沉积参数分别编程，以达到所需的薄膜性能。ANELVA C 7100包括一个多区域真空室，其疏散压力为1 × 10-3 Pa，该资产配备了一个内置热处理炉，用于膜层沉积后处理。此外，该模型与多种气体输送系统兼容，如表面预处理和气体引入。该设备采用直观的触摸屏图形用户界面（GUI）,易于操作。GUI提供了控制系统参数、监视单位变量和捕获数据所需的所有选项。该机器还包括一个自动配方存储工具，以便于召回以前保存的操作条件和配方。CANON/ANELVA C7100具有许多先进的工艺，包括等离子体辅助沉积薄膜和形成蚀刻面膜。它提供了多种沉积速率和均匀性监测、多点溅射目标映射功能以及预先设定的基板加载和卸载。该资产设计环保，具有集成涡轮分子真空泵和低功耗模式。CANON/ANELVA C 7100是一种强大且经济实惠的溅射模型,可实现卓越的薄膜沉积质量。它具有良好的沉积均匀性和广泛的工艺能力。此外，直观的触摸屏用户界面使设备易于使用和编程。