二手 CANON / ANELVA C-7100GT #9188155 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

ID: 9188155
晶圆大小: 12"
优质的: 2007
PVD Gate metal deposition system, 12" CANON / ANELVA MDX400 Tandem core Software version: 100902 Upgraded on 2009 Hardware configuration (Fab): Main system: Equipment front end module (EFEM) Quadro load lock (2) Transfer chambers Pass chamber (with wafer aligner) FOUP System: (2) RORZE Load ports Handler system: Transfer robot double end-effector (EFEM) (2) Wafer handling units dual-arm (Transfer chamber) ATM Wafer aligner (EFEM) VAC Wafer aligner (Pass chamber) Process chamber: (3) PVD PCM-X Chambers (2) PVD 2PVD-EX Chambers PVD 4/5PVD-EX Chamber Gas heat chamber Hardware configuration (Subfab / Auxilliary units): (4) Power distribution racks Compressor rack with cryo compressor Control rack for core (2) Control racks for (2) PVD-EX Control rack for 4/5 PVD-EX (3) Control racks for PCM-X Control rack for gas heat EES Rack (3) Chillers 2007 vintage.
CANON/ANELVA C-7100GT是一种紧凑、高性能的溅射设备,专为各种薄膜沉积应用而设计。该系统具有高速、精确控制的直流磁控管溅射储存器,可用于各种沉积。该溅射装置为先进的薄膜加工提供了最佳的沉积速度和优越的基材质量。它能够在大型基板上创建精确、均匀的层,并精确控制膜的厚度和组成。CANON C-7100GT的主要部件是源、基板支架、旋转溅射室、真空机、动力单元、锁载室和控制器。该源由一个或多个磁控管组成,这些磁控管具有多种阴极材料,用于创建材料的薄层。基板支架能够处理直径达300毫米的大型基板,并具有旋转和倾斜样品的能力。旋转溅射室旋转底物,以确保膜沉积均匀。真空工具维持工作环境,去除反应产物。锁载室减轻了工作室压力和温度的波动。最后,控制器负责电源、反应参数以及溅射过程的监控。ANELVA C-7100GT适用于光学涂层、反射涂层、抗反射涂层、表面保护涂层、纳米结构涂层、金属层沉积、封装等多种薄膜沉积应用。它能够使用各种类型的工件材料,如聚合物、金属、陶瓷和复合材料。它提供精确的沉积控制,薄膜厚度变化小至0.2 nm.该资产专为高吞吐量而设计,以确保易于准备和灵活操作。C-7100GT是一款可靠耐用的车型,使用寿命长,维护要求低。它具有安全设备,包括集成的紧急停止和安全功能,可保护操作员、组件和环境。该系统的设计符合公认的安全标准和法规,并为远程控制和监测提供各种选择。该单元还提供精确准确的工艺优化和数据收集,使用户能够监测和分析薄膜沉积工艺的结果。
还没有评论