二手 CANON / ANELVA C-7170C #9031249 待售

CANON/ANELVA C-7170C Sputtering Equipment是一种经济高效、性能驱动的溅射沉积系统,用于生产具有极好的可重复性的薄膜。CANON C-7170C单元设计用于工业生产、研发和实验室应用。该机采用先进的扫描仪、自动基板装卸，以及多种工艺选择，包括A-离子清洗、溅射沉积、电气测量和现场观察。ANELVA C-7170C工具由两个组件组成：两室溅射资产、两个射频电源、自动移动扫描仪、基板支架、真空泵、电离仪和控制器。双室模型既可用于氙气溅射，也可用于静电溅射。两个射频电源为目标提供必要的电源,以实现较高的沉积速率,而自动扫描仪则允许选择性区域沉积所需的薄膜。基板支架的设计允许在直径为8英寸或6英寸的窗口中均匀应用薄膜。高真空泵为溅射过程提供了必要的真空水平，电离计有助于监测设备的绝对压力。最后，控制器系统使设备能够自动运行，并提供机器性能的实时反馈。C-7170C工具提供了广泛的工艺可能性，如高ARS（Argon Sputter）、低ARS（Sputter）、静电溅射沉积、蚀刻、原位观测和电气测量。资产可以处理高分子、金属、陶瓷、氧化物等难度不同的材料。再者，该模型可用于生产范围广泛的薄膜，从金属到金属合金，以及无定形、晶体和复合半导体。该设备还可用于生产厚膜，表面一致均匀。该系统提供了对工艺参数的出色控制,并具有每个基板6秒的快速基板更换时间,从而为生产应用提供了高吞吐量。此外，该装置能够以5 x 10-7 Torr的基本压力进行超精密离子束蚀刻，以实现极低的材料表面污染。机器的自动化功能有助于降低人工成本和提高整体刀具吞吐量,使其成为生产运行的理想选择。总体而言，CANON/ANELVA C-7170C是用于生产、研发和实验室应用的极好的成本效益和性能驱动的溅射沉积资产。该模型的特点使用户能够实现广泛的沉积过程，具有极好的可重复性和产率。