二手 CANON / ANELVA C-7300 #9366161 待售
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ID: 9366161
晶圆大小: 12"
优质的: 2010
Sputtering system, 12"
Non-SMIF type
Wafer type: Notch
Pin chuck
Operation system: Windows
Missing parts:
CHM Stage heater
Load lock cryo pump
2010 vintage.
CANON/ANELVA C-7300是由CANON Corporation设计制造的磁控溅射涂层设备。为满足表面加工和沉积应用日益严格的要求而开发的CANON C-7300采用遥控阴极磁控管溅射（CMS）工艺，非常适合涂覆大面积、高均匀度的部件。ANELVA C 7300由两个主要部件组成：加工室和磁控管电源.该室主要由工艺室、气箱、真空泵和冷却剂供应以及磁控管溅射枪组成。在加工室内部，磁控溅射枪安装在腔壁上，让溅射枪在顺时针和逆时针方向上都能不受限制地旋转。气体通过腔室侧面的气箱引入，而疏散泵则调节腔室内部的压力。位于加工室外的磁控管电源通过高压电缆与溅射枪相连。CANON/ANELVA C 7300利用了高效的CMS工艺，其中通过内部场加速向目标的负离子被吸引到样品上，形成充满了通电原子的低压等离子体。这些原子对样品的轰击产生了一层薄而均匀的所需材料。通过使用快门阵列，可以精确控制溅射材料从目标到样品表面的传输。C-7300系统设计用于精确控制沉积速率、薄膜厚度、阶梯覆盖率和所得薄膜的组成。其人性化的界面允许方便地访问泵速、压力、流量和功率等单元参数，使机器的设置和操作能够根据应用得到快速优化。为了安全起见,该工具包括温度和暴露防护措施,以及用于立即访问资产参数的PC式O/S。C 7300溅射涂层模型是薄膜沉积在基板上的理想选择。它对沉积功率、气体流量和压力等参数的精确控制，提供了任何其他现有溅射涂层设备无法比拟的定制程度。此外,其强大的设计和高质量的组件可确保可靠的性能和长期可用性。
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