二手 CANON / ANELVA C-7540HCL #9031243 待售

CANON/ANELVA C-7540HCL是一种溅射设备，设计用于将金属或介电层沉积到各种材料的表面上，如半导体、金属零件、聚合物薄膜和晶片。该系统采用一种称为磁控管溅射的工艺，能够在高达350°C的极高温度下沉积材料。该机组还配备了高级多轴机，并采用多频双源电源，提供更高的均匀性和沉积率。CANON的先进功能C-7540HCL使其非常适合用于精密零件和元件的生产,以及用于创建薄膜层。该工具由溅射源、高速多轴处理室、辅助物料处理资产和控制模型组成。溅射源的工作原理是使用圆柱形目标将真空产生的金属或介电层沉积到基板上。高速多轴加工室然后加热基板和目标，使材料沉积。辅助物料处理设备便于将基材装卸到系统中。最后，控制单元允许对沉积过程进行精确控制。ANELVA C-7540HCL能够产生高均匀度的精密薄膜层。它还可以沉积各种金属和合金，并能够以精确和速度创造细纹、凹槽和图桉。此外，该机还配备了几种安全机制，如紧急停止开关和冷却剂-压力监测工具。C-7540HCL是一种可靠的资产,能够生产高质量、精确的薄膜层。它利用先进的工艺和高性能的部件来确保沉积工艺的质量和效率。该模型的优良特性和安全机制使其适用于众多行业的制造应用。