二手 CANON / ANELVA EVC-1701 #9269417 待售

CANON/ANELVA EVC-1701是为薄膜沉积而设计的溅射设备。它具有先进的直流（DC）溅射电源和创新的成形控制技术，使其能够为厚度均匀的小部件和器件生产高精度薄膜。溅射系统能够通过磁控溅射过程和磁控溅射过程来沉积材料。电源使用户能够精确控制沉积速率，生产薄而均匀的薄膜。这种控制是可能的，因为将闭环单元与板载脉冲发生器结合在一起。脉冲发生器由有源光束控制（ABC）机支撑，该机测量沉积过程中的精确电压，以实现精确和可重现的薄膜沉积。佳能EVC-1701还提供磁控管溅射技术，用户可以精确控制薄膜的特性和形状。磁控溅射是比直流溅射更先进的溅射过程，因为它可以在基板表面上形成更多的角度形状。这项技术主要可用于生产金属薄膜，如铜和铝，而不会改变薄膜成分。该工具支持从大型基板到复杂形状和几何形状的不同应用范围。它与CANON Monacloud系列基板兼容，范围从大的矩形片，也可以将薄膜直接沉积到三维形式的复杂表面元件上。除溅射技术外，ANELVA EVC-1701还具有内置加工室、气流控制可调节质量流控制器、输送到气室的可选择气流、自动热管理、方便用户的菜单资产等多种特点，方便设置沉积过程。EVC-1701是一种具有广泛应用的高级溅射模型。它对沉积速率的精确控制，均匀的薄膜和出色的形状控制，使其成为广泛的工业和研究应用的理想选择。