二手 CANON / ANELVA I-1060 SVII Plus 1 #9120224 待售

ID: 9120224
优质的: 1996
System Configuration: L1 Etch chamber Turbo pump: Osaka TG-550 RF: WMA-1, double frequency L2 Deposition chamber Cryo pump: CAP83R DC Power: PDC-870D L3 Deposition chamber Cryo pump: CAP83R DC Power: PDC-609 R3 Deposition chamber Cryo pump: CAP83R DC Power: PDC-307E R2 Despostion chamber Cryo pmp: CAP83R DC Power: PDC-307E R1 Degas chamber Lamp heater: 400°C L/L Left chamber Cryo pump: CAP83R L/L Right chamber Cryo pump: CAP83R Includes: Edwards dry iQDP80 Cryo compressor CRC 874 Main control rack operation rack RF Generator rack DC Power supply rack UPS PS1203 PVD Rack 1996 vintage.
CANON/ANELVA I-1060 SVII Plus 1是一种最先进的多功能溅射设备,设计用于进行物理和化学溅射过程。这种高性能溅射系统能够产生各种材料应用,如薄膜、多层和复合材料。它非常适合用于需要精确溅射的行业,如MEMS(微机电系统)应用、半导体、传感器和光电子。该机组使用中频电源(MFPV),其设计目的是在减小机器尺寸的同时保持尽可能高的微波功率输出。这样即使在高溅射速率下也能实现溅射过程的均匀性。CANON I-1060SVII PLUS-1由顶装主工具(包括源、开关和腔室)和符合人体工程学设计的操作员控制台组成。它还具有底部安装的磁控溅射头和源,以及匹配的独立溅射源和目标组件。该资产还具有突破性的测量和控制功能,如自动电源反馈、数字控制、高速过程控制和数据记录模型。这确保了对溅射沉积速率的精确控制,以及记录信息以进行工艺优化和改进工艺能力的能力。根据许多应用程序的要求,溅射头和溅射源可最大程度地提高均匀性和可重复性。它能够产生极小的溅射颗粒尺寸,使其能够产生均匀的纳米结构薄膜,这对于先进的电子设备、传感器和MEMS产品来说是一个极大的优势。该设备具有出色的灵活性,能够满足各种溅射过程要求,并能够定制每个应用程序。这包括自动交换目标、双源溅射、关闭和恢复启动操作以及喷嘴清洗操作,以确保系统的最高生产率和可靠性。ANELVA I-1060 SVII PLUS-1具有为表面处理提供最高吞吐量、精度和可靠性所需的所有功能。
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