二手 CANON / ANELVA ILC-1012 MKII #9144933 待售

CANON/ANELVA ILC-1012 MKII是为薄膜沉积应用而设计的直流触发溅射系统。CANON ILC-1012 MKII采用电离物理气相沉积（PVD）技术,能够对具有多种材料的基板进行精确和一致的涂层。该系统由真空室、溅射管、高功率阴极、射频等离子体发生器和用于增强离子束蚀刻的离子源组成。ANELVA ILC-1012 MKII的真空室设计为保持10e-4 Torr的高真空。采用陶瓷纤维和氧化铝绝缘，提供优异的耐热冲击性能和均匀性。溅射目标旨在最大限度地减少目标侵蚀并最大限度地提高沉积速率，对于金、铬、钢、钨、铝和其他金属的溅射速率高达300-700 nm/min。ILC-1012 MKII还具有高功率阴极,可向目标区域产生均匀的功率密度,并配有频率调节直流电源。这提供了均匀的电力，以确保一致和精确的处理。射频等离子体发生器在目标区域产生高度均匀的辉光放电。射频发生器还具有从1MHz到60MHz的可编程频率控制功能，以确保对功率密度和薄膜厚度的精确控制。CANON/ANELVA ILC-1012 MKII还具有用于高功率离子束蚀刻和离子辅助沉积的离子源。这在不引入反应性蚀刻气体的情况下使目标材料汽化和电离，并产生均匀的磁场从目标区域扫走等离子体离子。离子源还具有从50V到1500V的可调加速电压,允许从0.1瓦到30瓦的可变蚀刻功率。CANON ILC-1012 MKII是一种强大的溅射系统，旨在生产目标侵蚀最小的均匀薄膜。它非常适合广泛的薄膜沉积应用，包括薄膜氧化物涂层、铁电膜涂层、半导体膜涂层、介电膜。其先进的特点可以精确控制薄膜沉积。