二手 CANON / ANELVA ILC 1012 #9103093 待售

CANON/ANELVA ILC 1012是一款高性能、多功能的溅射设备，非常适合用于半导体和薄膜器件制造。它由一个具有RF电容耦合的高功率无刷溅射系统和一个高功率、二极管放置和计算机控制的氙离子淋浴头组成。该装置的设计目的是提供更好的涂层、更高的薄膜沉积速率以及不同尺寸和形状的基板之间的均匀性。CANON ILC 1012提供无阳极真空环境，均匀电场高达470V。这确保了膜沉积的最高质量，即使在非导电基板上也是如此。机器还装有一个无气泡的腔室，以尽量减少污染，确保产品的均匀性。为了进一步提高薄膜均匀性，一个集成的特征允许将倒置设计快门与腔室目标掩模集成在一起，以优化基板-目标表面的沉积速率。该工具一次最多可组合铝、铬和的8个靶标，使其在多层次的应用中具有高度的通用性。该资产还为每个目标提供10至550瓦的可调功率,非常适合不同类型的沉积过程。此外,该模型还具有能够识别和消除任何偏差的自动化过程模型,从而能够对薄膜厚度和均匀性进行更好的控制。ANELVA ILC 1012还包括一个便于数据采集和过程控制的控制软件包以及一个智能自动调节功能，可以动态控制溅射过程以保持沉积膜的恒定厚度。此外，该设备具有方便用户的界面，并配有水冷射频发电机以及必要的安全设备和密封件。总体而言，ILC 1012溅射系统提供了降低成本和改进工艺控制的高质量涂层，使其成为半导体和薄膜器件行业应用的绝佳选择。