二手 CANON / ANELVA ILC-1013 #9144935 待售

CANON/ANELVA ILC-1013是专门为纳米薄膜沉积而设计的溅射设备，非常适合用于半导体制造和多层薄膜的制造。它是一种磁控管溅射系统，利用磁控管目标将高功率磁场释放到目标表面上，以进行高效、精确的溅射。CANON ILC-1013是为精确控制层厚而设计的，可以沉积只有几纳米厚的材料层。它具有易于设置的直观用户界面和自动沉积的多种功能。ANELVA ILC-1013采用一管阴极结构，可用于将薄膜沉积到各种薄膜基板上。它具有两个独立和可编程的腔室温度，以及高精度的基板持有者温度控制特点，以最佳的基板稳定性。该装置利用先进的分析机器对薄膜沉积过程进行现场监测。ILC-1013包括两支溅射枪，设计方便目标交换和高度可重复性。该枪可以配置为单或双元件溅射，允许用户根据应用要求选择最佳模式。该工具还为每支溅射枪配备了独立控制器，使用户能够为每支枪编程自定义配方，实时调整溅射参数。CANON/ANELVA ILC-1013溅射资产的设计满足各种薄膜沉积要求。它具有一个通常能够容纳4英寸基板的腔室大小，以及一个可选的旋转基板支架，允许处理多达6英寸的基板。此外，该模型还包括一个可调气体流量设备和一个真空水平控制器，用于真空水平的自动控制，以确保精确和可重复的膜沉积。总体而言，CANON ILC-1013是一个精心设计的溅射系统，为用户提供对层厚的精确控制，并为高级沉积结果定制配方编程。从高功率磁场到直观的用户界面和基板持有者温度控制，ANELVA ILC-1013可以帮助简化薄膜沉积工艺，在广泛的应用中获得优异的效果。