二手 CANON / ANELVA ILC 1051 MKII #9220284 待售

CANON/ANELVA ILC 1051 MKII是一种动态溅射设备，设计用于各种工业应用的各种材料的气相沉积和表面处理。用于金属、陶瓷和半导体材料的涂覆和清洁，以及薄膜沉积。该系统包括三个主要组成部分：电源、加工室和真空装置。电源能够为溅射、离子铣削和薄膜生长提供高达500瓦的功率。加工室容纳底物、目标材料和阴极。它通常连接到真空泵，用于沉积时保持腔室内的真空。CANON ILC 1051 MKII利用直流（DC）阴极，能够在低频（100 kHz）下产生高沉积速率，并能产生高密度薄膜。它具有集成的过程控制功能，可用于调整目标材料的电流、电压、入射角和温度。此外，机器还配备了数字读出显示器，可以清晰地监控工艺参数。与其他溅射系统相比，该工具在相对较低的温度下运行，这使得它适用于一系列材料应用，包括耐火金属、陶瓷靶标和硅片基板。工艺室也是温度控制的，可以在沉积过程中进行精确的温度控制。该资产也适用于导电、绝缘和半导电薄膜的PVD（物理气相沉积）。此过程允许原子级精度的逐层沉积。它也可用于氧化膜沉积，在光电和电子器件应用中有用。该模型还能够生产具有优异光学性能的均匀光滑表面涂层。总体而言,ANELVA ILC-1051 MKII是一种先进的溅射设备,可提供广泛的应用和功能。能够产生高质量的薄膜沉积，适用于多种材料。该系统还提供精确的过程控制、温度控制和逐层沉积。所有这些特性使得它成为研究人员和工业专业人士寻找一个多功能和可靠的溅射单元的绝佳选择。