二手 CANON / ANELVA ILC 1051 MKII #9390490 待售

CANON/ANELVA ILC 1051 MKII是一种用于物理气相沉积过程的溅射设备。溅射是一种用于在材料上创建薄膜的工艺,通常是在表面上创建金属膜。这种溅射系统由多等离子体离子源供电，专门设计用于提供优越的表面质量和较高的沉积速率。CANON ILC 1051 MKII具有由不锈钢组成的真空室，容积约260升。它配备了四轴直线电机驱动器，允许精确的三维溅射沉积。该单元还配备了一个负载锁室和一个排气泵，用于快速疏散腔室以进行高效的过程循环。对于溅射，ANELVA ILC-1051 MKII利用了多达四个阴极，允许同时沉积多层薄膜。每个阴极由要溅射的目标材料组成，机器配备了可调电源，能够向每个阴极输送高达4500瓦的功率。该工具还配备了用于高频溅射的可调变频射频（RF）电源，有助于促进高沉积速率和均匀层厚。ILC-1051 MKII能够运行各种溅射过程,包括高速度和低速度溅射、直接、成角度和双溅射,以及旋转阴极溅射。该资产还具有可移动的中板，允许将薄膜沉积到各种大小和形状的基板上。ILC 1051 MKII配备了智能控制器，可监视和控制溅射过程。该控制器包括一个触摸屏显示、可编程按钮和状态指示器，允许操作员实时监控溅射过程并相应调整参数。控制器还包括一个条形码读取器,用于无缝集成到自动溅射系统中。总之，CANON/ANELVA ILC-1051 MKII是一种可靠的溅射模型，具有较高的表面质量和较高的沉积速率。这台设备配备了多等离子体离子源、4500瓦可调电源和可移动的中板，允许将薄膜沉积到各种尺寸和形状的基板上。该系统还配备了智能控制器，允许操作员实时监控溅射过程，并相应调整参数。