二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #293740222 待售

CANON/ANELVA ILC 1051是一种溅射设备，设计用于将材料薄膜沉积到多种基板上。该系统广泛应用于研发、工业和大学实验室，并已广泛应用于半导体工业中，将介电层和金属层沉积在硅和砷化的晶片表面。CANON ILC 1051是一种溅射装置，使用磁控溅射枪将薄层材料沉积在基板表面。溅射枪利用直流（DC）和无功射频（RF）功率使目标材料汽化并沉积到基板上。该机设有一个石英真空室，该真空室配有基板支架、一组多极永磁体和用于测量室内压力和温度的离子计。基板支架设计用来容纳直径不超过9.8英寸的基板。直流和射频电源可以单独调节，以提供最佳的沉积速率和质量。磁体产生均匀的磁场，有助于降低背景等离子体，提高沉积层的均匀性。该工具具有许多有用的功能，使其适合广泛的应用。它包括一个集成的水冷目标，允许延长目标寿命，以及用于在沉积前清洗或蚀刻基板的氧蚀刻模块。它还包括一个集成的快门资产，以改进对外部颗粒和污染物的保护。ANELVA ILC-1051具有高度的可控性，允许精确和可重复的沉积。直流和射频电源的组合在沉积过程中提供了高度的灵活性，具有控制沉积速率和厚度、均匀性和组成的能力。该模型还能够为不同类型的沉积提供不同的反应性气体。CANON ILC-1051是理想的沉积设备，适用于需要最高水平的控制和准确性的应用。它提供了极佳的沉积均匀性，可用于创建高质量的层，用于广泛的应用。