二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #293821354 待售

CANON/ANELVA ILC 1051是设计用于半导体加工的溅射设备。它能够将各种材料沉积到各种底物上，包括氧化物、金属、氮化物和有机钝化层。CANON ILC 1051还提供了使用磁控管溅射技术沉积包括钛、铬、铜、铝等多种材料的薄膜的选项。该系统配有集成工艺室和专利负载锁单元。这使机器能够快速、高吞吐量地将材料沉积在基板上。此外，载荷锁使多种基板能够一次装卸，而不会使腔室内部暴露于受污染的空气中。集成工艺室加热均匀，工作面积大，允许厚度变化的薄膜沉积。它还能够生产高度均匀的薄膜，对薄膜厚度进行精确控制。该工具配有可调气流控制板和溅射压力监测仪。这确保了腔室内的环境受到控制，并允许使用者调整气压以达到所需的溅射速率。资产还配备了一个旋转机构，允许底物在沉积过程发生时旋转，有助于减少由于不均匀的薄膜沉积造成的均匀性缺陷。该模型采用直流电源和多板设备控制溅射速率。这样就可以精确控制沉积速率。直流电源还使系统能够将材料沉积到各种基材类型上，包括厚度不同的大基材和基材。ANELVA ILC-1051是一个可靠、高效的单元,为半导体行业提供了广泛的功能和优势。它能够将不同厚度的薄膜沉积到各种基板上，并能精确控制溅射速率。此外，它还提供了一个较大的工作区域，并有一个集成的负载锁定机，用于快速的底物装卸，使其成为半导体加工的理想选择。