二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9033667 待售

CANON/ANELVA ILC 1051是一种高精度、计算机控制的溅射设备，设计用于提供材料在基板上的精确沉积。它主要用于制造半导体元件，但也可用于工业和医疗应用。该系统由四个主要组件组成：溅射室、烧蚀室、射频发生器和控制单元。溅射室包含作为原子源的溅射靶和放置在腔内基板支架上的基板。烧蚀室包括一个射频发生器，它提供了一个强大的高频电场，用于产生清除目标材料并将其沉积到基板上所需的能量。控制机是一台微型计算机，允许用户定制电压、压力、气位等多种参数，以满足特定的应用需求。佳能ILC 1051的一个关键特点是其高溅射吞吐量。该工具的高功率射频发电机可以比其他系统实现更快的溅射速率，使其沉积材料的速度比常规溅射系统快四倍。这也意味着更快的生产时间,这意味着更高的生产率。该资产还具有自动真空模型，允许用户在清洁和沉积活动之间快速切换，进一步提高效率。此外，在任何给定的基板温度下，它的精确自动控制确保了任何所需厚度的一致、均匀的薄膜。除了卓越的性能外，ANELVA ILC-1051是一款经济实惠的溅射设备。对于预算有限的企业和实验室来说，这是一个理想的选择，因为它不需要与许多其他溅射系统相关的高昂成本。而且，它与最常见的半导体处理模块兼容，其菜单驱动的控制和用户友好的界面使操作和维护变得容易。总体而言,CANON/ANELVA ILC-1051是一种先进、可靠的溅射系统,可提供优异的性能,成本仅为一小部分。它是制造高精度半导体元件的理想选择，其多功能性和易于操作，使其成为广泛的工业和医疗应用的合适选择。