二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9111758 待售

CANON/ANELVA ILC 1051是一种为了提供高品质的薄膜沉积技术而开发的溅射系统。它以其出色的性能、精确度和生产的薄膜层的精确度而闻名。它由溅射室、基室、目标室、旋转电动机和感应电源组成。溅射室允许用户设置所需的过程压力和温度，而目标室则允许控制目标材料相对于基板的位置。旋转电动机使目标材料在腔室中的精确定位能够实现溅射过程的最佳目标配置。基室容纳基板并控制过程的温度和压力。感应电源用于控制将溅射材料转移到基板上的离子电流。CANON ILC 1051能够进行磁控管溅射、电离金属溅射、金属离子等离子体溅射等多种溅射过程。它还可以进行快速热处理。此外，它被设计为接受包括但不限于氧化物、反应性金属、纯金属、合金、碳化合物和各种陶瓷材料的各种靶标。ANELVA ILC-1051是一种多功能溅射系统，适用于广泛的研究应用，包括半导体制造、薄膜太阳能电池生产、光学涂层和医疗器械应用。此外，它还可用于为各种产品沉积高质量的导电膜、粘合剂和保护膜。也可用于沉积各种化学、电化学和机械过程的材料。ILC-1051具有开放式体系结构,允许用户自定义其系统以满足其特定要求。其精密的沉积控制和先进的电源，使得层均匀性高精度和优秀的薄膜性能。该系统的灵活性和适应性使其成为各行业研究人员的首选。