二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9121831 待售

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CANON / ANELVA ILC 1051
已售出
ID: 9121831
晶圆大小: 6"
Sputtering systems, 6".
CANON/ANELVA ILC 1051是为半导体、光伏和其他工业应用而设计的高精度溅射设备。它具有先进的离子束源、可编程过程控制器和模块化设计,便于维护。该系统能够进行标准离子束溅射、离子镀和化学气相沉积(CVD)工艺。CANON ILC 1051提供了一系列的基材和离子源,具有极好的精确度和重复性。该机组使用大功率离子束轰击半导体器件,如太阳能电池或LED,产生所需材料的导电薄膜。离子束是由激光器产生的,然后将其聚焦并定向到基板上。基板是由多种材料构成,包括硅、氮化氙、铝和碳化钨。机器配备了一个可编程的过程控制器,可以精确控制溅射参数。这包括电压、气体流量、电流和功率。它还提供了对基板沉积速率和温度的精确控制。离子束的功率和温度也可以调整,以优化溅射过程。ANELVA ILC-1051是一种可靠、高效的溅射工具,在最小的停机时间内提供最大的性能。它旨在为各种溅射工作负载提供卓越的效果。该资产还非常适合要求高精度和可重复性的应用程序。它采用模块化设计,便于维护和维修。CANON/ANELVA ILC-1051是广泛工业应用的理想溅射模型。
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