二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9134662 待售

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ID: 9134662
Sputtering system AR HE N2 DA 2000 vintage.
CANON/ANELVA ILC 1051是一种物理气相沉积(PVD)溅射设备,设计用于沉积具有精确控制的高质量薄膜。该系统配备了两个阴极,可以设置在四种支持配置中的任何一种:直流、交流、射频和DCMS。这允许灵活的操作,允许快速的材料循环和更高的工艺速率。该单元可以使用其高级操作机器在自动模式下操作,也可以在具有广泛用户定义参数的受控反馈环路内操作。该工具的气相真空环境提供了最高效、最可重复的溅射沉积。该资产由一个10 kW磁控管式溅射源提供动力,该溅射源具有屏蔽磁体和受控磁场分割。电源配备最大3 kV的脉冲电压,确保精确高效的处理。模型的模块化设计为每个过程提供了独立的腔室,有助于提供最大的过程灵活性。高精度和可调气体分散器有助于确保气体在晶圆上的均匀分布,高精度基板支架有助于优化等离子体稳定性。该设备还配备了先进的原位诊断系统,提供即时反馈并协助优化过程控制。单元内的过程传感器允许快速准确地调节气体压力、温度、电流和电压。这样可以确保用户始终获得最佳结果。该机还配备了多点测量设施,用于测量溅射材料。这有助于确保薄膜达到所需的厚度和均匀性。CANON ILC 1051有一个用户友好的控制工具,允许用户对过程进行实时调整和监测。它还提供了一个内置的数据记录功能,允许更轻松地存储和检索流程结果。此外,该资产易于维护,并在需要时提供现场帮助。ANELVA ILC-1051溅射模型是一种先进的PVD沉积设备,为各种应用提供精确、可重复、高效的溅射沉积。其设计、高级功能和顶级性能使其成为满足所有薄膜沉积需求的可靠且经济高效的解决方桉。
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