二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9156540 待售

CANON/ANELVA ILC 1051溅射设备是一种先进的高精度工艺工具,能够沉积具有优良均匀覆盖和阶梯覆盖的薄膜,用于制造集成电路、数据存储和其他高科技设备。CANON ILC 1051具有集成式溅射系统，带负载锁室，集成式RF/DC电源，高真空单元和可倾斜平面磁控管阴极，用于直流磁控管溅射。此外，该机还配备了低压3 MHz射频偏置，提供可控的轰击威力，促进溅射过程。低压射频功率增强了溅射沉积的均匀性，增加了薄膜的耐热损伤能力。可倾斜的平面阴极可以达到高达150°C的温度，为沉积过程创造更清洁的表面。ANELVA ILC-1051利用"双弧"技术和可单独调节的弧来提供均匀性和可重现的溅射结果。这一技术涉及两个旋转弧线，从而提高了吞吐量，提高了工艺质量。采用双弧技术，可以精确调整电弧之间的距离，从而实现非常薄的层沉积。此外，CANON/ANELVA ILC-1051还配备了独特的离子加速技术，有助于提高薄膜质量、附着力和耐蚀刻性能。此外,ANELVA ILC 1051溅射工具采用高速过程控制器设计,包括直流电源、射频电源、高真空资产和其他控制,以及若干安全系统,以实现最大程度的过程可靠性和免维护操作。它还包括多种功能,旨在提供更好的工艺精度、微调功能、简化维护、提高安全性和减少停机时间。ILC-1051控制器还以自监控模式运行,并记录每个过程的数据,以确保整个沉积物的层厚一致。总之，ILC 1051是一种强大的溅射模型，具有先进、准确、可靠的特点，可用于高科技设备的制造。它采用双弧技术,具有可单独调节的弧线,可提高工艺质量,采用离子加速技术提高薄膜附着力和蚀刻阻力,以及具有监控能力和先进安全系统的高速控制器。