二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9219991 待售

佳能/ANELVA ILC 1051溅射设备是一种强大可靠的溅射系统，旨在满足当今工业生产线的需求。这种先进的溅射装置能够在广泛的溅射应用中实现高精度薄膜沉积。该机包括离子源、溅射室、真空泵、控制柜。离子源配有直流磁控管溅射源、密封阴极源和离子束源。由不锈钢构成的溅射室足够大，最多可容纳三个目标。腔室具有可调温度、多种气体注入系统和可调压力。连接到腔室的真空泵产生真空，使溅射过程得以发生。控制柜包含控制、操作、监视和维护溅射工具所必需的组件。直流磁控管溅射源能够高速率沉积薄膜，适用于大型生产线。密封阴极源允许极高精度的薄膜沉积。其离子束源产生聚焦的离子束用于目标沉积，允许更高的精确度。可调甲烷流量可确保以所需的速率均匀沉积。溅射室内可调节的温度使得可以产生具有各种特性的薄膜。CANON ILC 1051溅射资产是一种功能丰富的工业溅射模型，能够创造出性能优良的薄膜。离子束源允许薄膜的精确沉积，而在腔室中可调节的温度使薄膜能够产生各种性质的薄膜。是广泛工业生产线的完美解决方桉。