二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9220287 待售

CANON/ANELVA ILC 1051溅射设备是一种先进的高性能系统，用于薄膜沉积的工业和研究领域。它是一个计算机控制的电解机械多轴反应性溅射单元（CCEMMRS），具有多轴离子源和多轴样品级。该机器设计用于薄膜的精确和可重复沉积，通过创造一个环境，使离子和中子与底物相互作用形成薄膜。该工具的最大溅射速度为每秒100纳米（nm/s），能够沉积各种材料。CANON ILC 1051资产配备了多轴离子源和多轴采样级，允许精确控制离子束的方向和强度。该模型包括反应性气体供应、排气设备和计算机控制的数据采集系统。该单元的最大溅射速度为100 nm/s，具有沉积金属、合金、化合物等多种材料的能力。机器允许控制能量、入射角和离子束聚焦，以实现高度均匀的沉积层。该工具由机械组件和计算机控制组件组成。机械部件包括样品级、离子源、废气资产和反应性气体供应。离子源用于生成离子束，而样品级用于移动要溅射的底物。反应性气体供应提供了在过程中添加反应性气体的能力，而废气模型用于收集任何释放的颗粒。计算机控制部件包括一个数据采集设备，该设备提供关于溅射过程的反馈和数据，用于过程监测和控制。ANELVA ILC-1051溅射系统是一种工业级单元，能够生产均匀、高质量的薄膜，对离子束的能量、入射角和聚焦有极好的控制。该机是一种多轴计算机控制的电解和机械反应性溅射工具，允许材料在广泛的基板上精确沉积。该资产提供了对溅射过程的精确控制，使得高质量的薄膜沉积具有极好的均匀性和附着力。