二手 CANON / ANELVA ILC 1051 #9257784 待售

CANON / ANELVA ILC 1051
ID: 9257784
晶圆大小: 6"
Sputtering system, 6".
CANON/ANELVA ILC 1051溅射设备是为薄膜沉积而设计的电磁控溅射系统。它是一个高性能、高精度、自动化的工业单元,提供出色的薄膜均匀性和可重复性。CANON ILC 1051可以使用两级和三级工艺沉积金属、氧化物和氮化物。适用于多种材料,可以将薄膜沉积在多种厚度,从很薄的层到厚的薄膜。它具有高纯度的等离子体腔和超高真空环境以及无与伦比的污染控制机器。这种溅射工具由先进的X-Y表控制,可以精确定位溅射目标和基板。ANELVA ILC-1051具有可调的z-anais资产,提供了在曲面上沉积薄膜的能力。它配备了先进的冷却模型,为溅射目标和基板提供必要的热控制。CANON ILC-1051具有广泛的组件,包括可倾斜的目标、独立的质量流控制器、温度控制器以及为溅射过程提供动力的自动等离子发生器。它还配备了计算机控制的诊断系统,用于监测溅射过程和沉积膜。这种溅射设备的独特之处之一是其先进的激光分析系统,可以提供沉积膜的组成和结构的详细数据。该单元还可用于测量台阶高度和层厚度以及监测原位沉积特性。CANON/ANELVA ILC-1051自动化程度很高,即使对于经验有限的用户也很容易使用。它可以配置为满足用户的需求,它的模块化设计可以方便维护和升级。它是一种可靠的机器,其卓越的性能和质量使其成为研发和工业用途的绝佳选择。
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