二手 CANON / ANELVA ILC 1060 #9248133 待售

ID: 9248133
优质的: 2000
Sputtering system Missing parts 2000 vintage.
CANON/ANELVA ILC 1060是设计用于各种科学和工业应用的溅射设备。它是一个计算机控制的真空系统,利用物理气相沉积将薄而均匀的材料层沉积到基板上。CANON ILC 1060具有很高的适应性,可以编程为精确操纵溅射目标组成和电流、沉积速率、流度、基板偏差等变量。其模块化设计可实现高生产吞吐量,其卓越的过程控制和自动化允许可重复、可预测的结果。ANELVA ILC-1060的主要部件包括旋转溅射源、基板支架和可旋转目标。旋转溅射源使用两把枪,每把枪都能产生电弧和直流放电。基板支架可容纳450毫米大小的基板,能够同时容纳最多四个基板。可旋转目标溅射面可容纳直径达200毫米的溅射目标。可选的角度安装目标和压板可用于扩展目标区域覆盖范围。ILC-1060提供了多种溅射工艺,包括氙等离子体和反应性气体溅射,其工艺控制高度可调,以满足各种最终用户的需求。一个主控制模块可以被编程为精确操纵溅射目标组成和电流、沉积速率、流度和基板偏差。可选的二级控制模块可用于处理诸如反应性气体流量、腔室压力和层厚等工艺参数。可以锁定此模块以防止未经授权的操作。CANON ILC-1060既灵活又经济,是众多应用的诱人选择。其紧凑的占地面积和节能设计最大限度地减少了空间需求,并最大限度地节省了成本。高级安全系统和自动统计过程控制保持生产质量和可靠性。在流程序列结束时,一个流程后视觉单元检查已完成的部件是否存在潜在的流程错误,并确保准确性。总体而言,ILC 1060是业界领先的溅射机器,非常适合各种科学和工业应用。其可靠的性能、卓越的工艺控制和可调节的设置使得它成为精确、高效地将材料薄层沉积到基板或晶片上的绝佳选择。
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