二手 CANON / ANELVA L-210H-WS #9055191 待售

CANON/ANELVA L-210H-WS溅射设备是一种将薄膜材料沉积到基板上的多功能沉积工具。溅射系统由两个大功率磁控管源和一个工作阶段组成。磁控管源产生被高压电源加速的电子。加速的电子接着轰击一种目标材料，通过电离粒子将材料转移到基板上，产生薄膜涂覆的基板。CANON L-210H-WS溅射装置装有两个RF磁控管溅射源，并有一个最大压力为10-4 Pa的疏散室。该机温度范围为25°C至350°C，具有可调压力、功率和电压设置。它包括一个尘埃过滤工具，帮助保护资产免受污染物，还包括一个集成的冷却模型，以确保安全和高效的操作。ANELVA L-210H-WS溅射设备可用于广泛的应用，包括但不限于薄膜氧化硅/氮化硅/碳化硅（SiOx/SiNx/SiCx）薄膜、铜氧化物（CuO）沉积、铜锡（CuSn）、氧化钛（TiOxide （TiNXx/SiCx）薄膜和Cx。这种溅射系统还能沉积金属和导体，如铝（Al）、铜（Cu）、镍（Ni），形成各种层。L-210H-WS溅射装置是一种高科技和高性能的机器，设计直观，易于使用，可靠。该工具集成了远程操纵杆操作、高性能腔室疏散资产、可编程配方编程、故障报警功能、易于维护等最新技术。此外，该模型还提供了可重现结果的精确过程控制，确保了可靠和一致的薄膜沉积。总体而言，CANON/ANELVA L-210H-WS溅射设备是一种先进而强大的沉积工具，用于将薄膜沉积在基板上，从而实现卓越的薄膜质量、高分辨率和精确的工艺控制。因其高性能能力，适用于研发、计量、快速原型设计和纳米技术应用。其直观的用户友好界面和先进的特点使其成为各类薄膜沉积应用的绝佳选择。