二手 CANON / ANELVA SPC-530H #9111244 待售

CANON/ANELVA SPC-530H是一种设计用于薄膜沉积的高性能溅射设备。它配备了500 W、射频（RF）溅射电源和低压直流（DC）辉光放电电源。CANON SPC-530H系统通过基于实时微处理器的单元提供出色的过程控制,该单元可监视和控制溅射速率、辉光放电条件和周期间停留时间的设定点。溅射电源的工作频率范围很广（50-4,000 kHz）,能够处理直径不超过8英寸的基板。ANELVA SPC-530H机设计用于快速的溅射沉积和快速的材料转移和从溅射室。SPC-530H工具在单个资产中提供广泛的溅射过程,包括离子束蚀刻、反应性离子蚀刻、表面活性剂沉积、蒸发和磁控管溅射。它的灵活性和可扩展性允许广泛的基板和溅射参数。CANON/ANELVA SPC-530H模型包括一个可调腔室压力控制设备，能够精确控制工艺参数，如沉积速率和薄膜厚度。此外，CANON SPC-530H系统还支持自动清洁和自动漂移特性，这有助于更长的沉积时间和更快的沉积速率。ANELVA SPC-530H单元可以生产多种薄膜类型，从氧化膜到高温半导体电介质。其广泛的溅射过程允许微调沉积速率，以得到理想的结果。此外，SPC-530H机具有独特的高温基板加热选项，能够沉积具有优异性能的薄膜。此外，该工具还支持在线光学检查，从而可以对生产的薄膜进行质量控制。CANON/ANELVA SPC-530H资产是为长期使用和可靠性而设计的。它的闭环处理确保了精确的测量和严格的过程控制。室内维护和清洁的自动化程序消除了手工调整的需要，降低了工艺成本。此外,用户友好的软件和图形界面允许轻松高效地控制模型的功能。总体而言，CANON SPC-530H是一种用途广泛且可靠的溅射设备，设计用于薄膜的高性能沉积。其广泛的溅射工艺，并伴有自动清洁和自动漂移等先进特性，使得薄膜的快速和精确沉积具有极好的可重复性。此外，该系统还具有独特的高温基板加热选项，便于沉积具有优异性能的高温薄膜。该装置支持高速沉积，适合生产具有精确、可重复效果的薄膜。此外,它的用户友好界面能够快速轻松地控制机器的功能。