二手 CANON / ANELVA SPC-530H #9111247 待售

CANON/ANELVA SPC-530H是为工业用途而设计的高性能溅射设备。它结合了两个组成部分：一个基于等离子体的磁控管溅射源和一个用于创造真空环境的腔室。基于等离子体的磁控管溅射源利用电子淋浴来激发产生等离子体的氙和氧的气体溷合物，提供高能且均匀的实体轰击基板表面。表面的晶体结构随后通过对原子物种的轰击而改变。CANON SPC-530H的腔室设计为提供真空环境，允许材料在类似空间的条件下沉积在基板上。在1x10-6 Pa的极限压力下，腔室设计有外部增压泵，以维持所需的真空环境。此外，腔室设有真空线、管道、阀门，确保腔室的完整性，保持最佳性能。ANELVA SPC-530H具有多种功能,例如离子源,通过控制原子的电离和源功率检测器来帮助控制薄膜沉积,这有助于监控过程并发出反馈以保持所需的薄膜沉积。此外，SPC-530H还包括一个等离子体监测窗口，它允许观察室内的等离子体，并允许进一步微调过程。总体而言，CANON/ANELVA SPC-530H是为工业用途而设计的先进溅射系统。它结合了基于等离子体的磁控管溅射源和提供真空环境的腔室。该单元配备了离子源、源功率检测器、等离子体监测窗口等功能，允许对沉积过程进行精确控制。凭借其先进的特点，该机广泛应用于半导体和汽车行业，为用户提供高精度、可靠、经济高效的结果。