二手 CANON / ANELVA SPF-313H #9279660 待售

CANON/ANELVA SPF-313H Sputtering Equipment是一种高度先进且用途广泛的实验室工具,能够制造和沉积各种薄膜。它配备了多源离子束溅射源、封闭式工艺室、六基板转盘和多等离子体蚀刻系统。该单元设计用于大中型薄膜沉积工艺。它还允许用户通过设置蚀刻、溅射和反应性溅射的特定参数来自定义沉积过程。封闭的工艺室容纳三个独立的真空室。首先是要沉积的材料放置的溅射源室。第二个腔室装有6个用于晶片往返溅射源的基板转盘。第三室装有多等离子体蚀刻机和外围部件。溅射源由高功率离子束源组成。绝对控制的离子消耗确保溅射速率保持精确和可重复。多种单层或多层膜可以用离子束溅射源的高功率涂覆。这种威力对于铝、硅和当代材料等薄膜的反应性溅射通常是必不可少的。基板转盘的容量为六个基板，设计为均匀分配重量。低矩枢轴点可减少振动,同时提高稳定性和精度。此外，转盘易于调节，可用于各种基板尺寸和形状。ETCH工具装有氦基等离子体腔。这是控制某些聚合物、复合材料甚至金属蚀刻时的蚀刻速率的理想选择。该过程非常精确,提供了令人难以置信的可重复性和可靠性。佳能SPF-313H溅射资产是大中型薄膜沉积工艺的绝佳选择。它设计用于从金属沉积到反应性溅射、蚀刻和电镀等多种用途。它结合了高功率离子束源和精确的氦等离子体腔，提供了无与伦比的可重复性和对过程的控制。此外，它的大型六基板转盘提供了稳定性和灵活性。简而言之，ANELVA SPF-313H是任何需要可靠和易于使用的溅射模型的实验室的理想选择。