二手 CANON TOKKI CR 099 #9143788 待售

CANON TOKKI CR 099是一种溅射设备，设计用于将材料薄膜沉积到一系列工件材料上。该系统可用于各种溅射沉积过程，包括高速率、低压物理气相沉积（HRLP-PVD）和低压化学气相沉积（LPCVD）。该单元由高压直流电源供电，利用ARC、EOS和C8070逆变器精确控制溅射过程。ARC和EOS逆变器提供独立控制溅射过程温度和功率的能力，而C8070提供额外的电流控制和频率控制能力。该机器还包括一个高级流程监视器（APM）工具,用于监视和记录流程参数。CR 099包括三个不同的腔室：一个主真空室、一个第二加热腔和一个第三冷却腔。主室工作容积为2.1m3，工作压力范围为1.0至2.0 Pa，主室内部使用旋转磁控管溅射源将目标材料溅射到工件上。第二室和第三室分别配有加热和冷却系统，用于控制溅射材料的沉积速率和温度。此外，该资产还包括一个自动加载模型，该模型允许溅射过程连续运行，而无需人工。设备配备了必要的安全功能，如限压和热防护功能。CANON TOKKI CR 099能够生产厚度在0.3至40 µm之间的薄膜，令人印象深刻的均匀度为+/-5%。该系统还设计用于各种材料组成，包括金属、陶瓷和聚合物。它还提供了广泛的工艺参数，包括沉积速率、与工件的距离和单元功率。总体而言，CR 099溅射机是薄膜沉积的可靠有效的解决方桉。由此，广泛应用于从半导体制造、光伏电池、显示器生产到医疗和光学应用等多个行业。