二手 CPA / KURDEX 9900 #9035090 待售
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ID: 9035090
Sputtering system
Cold trap in each chamber
Load lock at each end
Substrate heater chamber
(3) Cathode chambers
Cathode size: 15"
The left side used to have a diffusion pump model #VHS-4, process chamber and the right load lock each had a turbo pump model# TURBOVAC 1000CT
No high vacuum pumps, turbo pumps or diffusion pumps included
Both load locks original vacuum controllers were upgraded some time ago with PLC vacuum controllers
System handles 14 pallets in a load, 12"x12" usable pallet area
Equipped in each load lock a heater enclosure and an omega temperature controller for high temperature cures (=<500C) at high vacuum.
CPA/KURDEX 9900是一种高度通用的物理气相沉积（PVD）溅射设备,专为薄膜沉积、扩散屏障涂层、防护涂层和光学涂层等应用而设计。它能够处理各种各样的基板，最多有四个溅射目标，磁控管溅射，或平面源，允许同时溅射在多个表面上。该系统配备了一个非接触式、完全计算机化的采样阶段，用于精确控制采样和沉积参数。它还包括一个PLC（Programmable Logic Controller），用于监视和控制所有工艺参数，加上高分辨率石英控制器，可以进行精确测量和精确溅射。CPA 9900为半导体和铁磁涂层行业的广泛控制和数据记录需求提供了全自动解决方桉。它与许多软件包兼容，包括MATLAB、AutoCAD和LabView。该机组使用特高压和高真空模式进行溅射，能够使用高能、低能和惰性气体沉积等多种来源。KURDEX 9900采用63mm的圆形溅射目标,可提高表面均匀性和薄膜质量。此外，由于恒定的溅射深度调节能力，该机实现了均匀的溅射目标面。机器有一个PLC来方便所有的工艺参数，从设置溅射速率到设置薄膜厚度。该机器易于使用，可以手动操作，也可以使用可选的自动调谐软件操作。自动调谐软件允许更精确和连续的溅射速率调整，以及自动输送防止氧化气体。该工具还可以记录清洁和沉积过程的每个单独步骤的数据。9900是一种高效的工具，可以制造高度均匀、无缺陷、成分广泛的大衣，可以提高产品的长期性能。CPA/KURDEX 9900溅射资产被证明是薄膜沉积的可靠、准确、坚固的工具。
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