二手 CPA / KURDEX 9900 #9115251 待售
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已售出
ID: 9115251
Sputtering system
DRESSLER Cesar 1kW cryo pump
(2) Torr 8
Torr 10
Process parameter control ranges:
Sputtering pressure: 5 - 30 Microns
Conveyor speed: 0.1 - 80 cm.min.
D.C Deposition power level: 100 - 9000 watts
R.F Deposition power level: 50 - 3000 watts
R.F Sputter clean power level: 15 - 1000 watts
Substrate heating: Ambient to 350°C
Uniformity performance:
Etch: ±10%
Deposition:
R.F Magnetron ±10%
D.C Magnetron ±5%
Vacuum performance:
Ultimate pressure
2 x 10(-7) in 16 hrs
5 x 10(-7) in 30 minutes
Rate of rise: 1 x 10(-4) 6 minutes
Vacuum tight: Less than 5 x 10(-10) standard atmosphere cc helium/second
Utility requirements:
4 Wires delta or 5 wires wye
Water temperature: 50 - 75°F (10-24°C)
Air: 70 to 100 PSIG (6 to 8 ATU) filtered, 1 CFM
Sputtering gas: Typically 5 PSIG (1.3 ATU) argon
Power: 208 V, 100 A. 3 phase, 50/60 Hz.
CPA/KURDEX 9900溅射设备是用于薄膜沉积的最先进的高科技设备。它是为溅射涂层、化学气相沉积或电镀等特殊应用而设计的先进、多目标、多枪、交钥匙系统。CPA 9900非常适合研究和生产应用。该装置包含多个目标，允许沉积各种材料，包括金属、氧化物、硅化钨和氮化物。该枪配置最多支持六个磁悬浮或八个石英晶体传感器。KURDEX 9900机器具有数字电源调节和反馈控制功能,可实现卓越的目标均匀性、高吞吐量和低基板故障。自动化过程控制包括多达256点的编程幅度斜坡/定时,用于基板偏差、材料输送、过程气氛和真空性能。工艺压力范围为0.64至10-8 Torr。用于改善成核和粘附的基板加热可以手动操作,也可以编程到高达800C的温度。9900提供了先进的接口能力,包括以太网、RS-232、GPIB和IEEE-488接口。可通过PC界面访问这些数据,以进行流程控制、数据记录、配方存储和远程操作。此外，该工具还提供了一个主动清除和再循环歧管，用于除氧。CPA/KURDEX 9900溅射资产是一种用途广泛、可靠、用户友好的模型,可提供出色的薄膜涂层解决方桉。多功能一体平台的设计和设计易于使用、可靠性和吞吐量。它需要最少的操作员培训，并提供将各种材料涂在不同基材上的能力。溅射设备非常适合各种工业、医疗、电子和国防应用。
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