二手 CPA / KURDEX V2000 #9059168 待售
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ID: 9059168
DC Magnetron In-line sputtering system
Single sided sputtering: Cathodes can be moved manually
Double sided sputtering is desired
Target size: 3-1/2" x 18"
Easy access to cathodes via hinged doors
Cathodes: 4 DC and 1 RF
Multiple CTI cryopumps for high vacuum
Load lock chambers on both ends
Loader handles: Up to 20"-28"
H-Panels or pallets
Variable speed pallet transport system.
CPA/KURDEX V2000是一种超高真空溅射设备,非常适合材料沉积应用。该系统设计用于将一系列介电、金属和折射率层沉积到基板上,并经常用于生产光学滤光片、太阳能电池和其他特种设备。CPA V2000具有一类领先的腔室几何形状,由两个大真空溅射铃组成,能够容纳直径达100毫米的基板。该装置设有专用真空和溅射准备室,可调节质量流速模块,全部装在一个紧凑的足迹。腔室耐电荷颗粒堆积,减少回流,并配有独特的可调磁体级,允许薄膜材料的精确沉积。原料装入主室,用快释电子束焊接密封牢固密封。该机包括三个可调陶瓷目标架,方便各种目标配置的调整。质量流量控制模块允许精确调节沉积,在基板上形成均匀的层。KURDEX V2000还配备了自动快门工具,保护基板免受溅射过程中产生的碎片或颗粒的伤害,并确保基板表面不受污染。环保操作确保在加工过程中无需清洗资产。V2000是一个灵活的模型,允许过程定制和支持多个配方。该设备还支持进程中成像和监测,具有精确的测量能力,并可选择数字或动力光学成像系统。CPA/KURDEX V2000具有可靠可靠的操作功能,可确保精确、可重复的结果。系统操作维护简单,人性化的界面使操作简单直观。由于其体积小巧、设计高效、操作可靠,CPA V2000非常适合溅射应用。
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