二手 CPA / KURDEX V2000 #9159037 待售
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ID: 9159037
Sputtering system
Process chamber:
Dimensions: 29.625” H x 9.5” W x 26.25” L
Chambers capable of 600 mm x 600 mm
(3) Process chambers with viewing windows
Entry: (1) Chamber
Deposition: (2) Chambers
(1) Load lock valve
Pumping port: CF-275 flange for RGA
Pumping ports for chamber with frame base plate
Standard modules
With up to (4) cathode positions per module
Cryopumped process chamber
Cryopumped load locks
(2) Sets shielding
RGA Port
DC and RF in any mix
Sputter single side or double side
Vacuum performance:
Ultimate pressure:
2 x 10(-7) in 16 hrs
5 x 10(6) in 30 minutes
Rate of rise: 1 x 10(-4) 6 minutes
Utility requirements:
Water:
4 GPM @ 65 PSI per Deposition / Heater position
Power:
208 VAC 3Ø, 60 Hz, 5 wire, 80A
Gas:
Compressed air: 80 PSI min, 90 PSI max
Vent gas (Nitrogen): 10 PSI min, 15 PSI max
Process gas (Argon): 20 PSI min, 25 PSI max
Doors with no cathodes
Hivacs
Cryos
Throttle valves
Load lock valve
Track assembly.
CPA/KURDEX V2000溅射设备是一种先进的溅射工具,用于将薄膜沉积在各种基板上。这个功能强大的工具由三相交流电源供电。它利用了一个专有的高真空、多焦溅射真空室,工作压力在1E-5 Torr下,允许最多三个独立的源同时溅射不同的薄膜。CPA V2000提供了一个蒸发源和一个单独的溅射源,两者都可以从同一腔室将薄膜沉积到基板上而不会转移基板。蒸发源使用陶瓷丝沉积厚度、材料组成和折射率通常在1,200至5,200 nm之间的单层或多层薄膜。溅射源由四个环形磁体阵列和一个圆柱形阳极组成,该阳极能够为四个溅射源供电。这个溅射源具有0-100%的线性功率控制,允许对溅射过程进行更大的控制。此外,KURDEX V2000提供了广泛的溅射枪/材料组合,允许生产具有卓越性能的材料。溅射系统还配备了锁载技术,通过在不同腔室之间切换,有助于维持高真空环境。这有助于将腔室的压力调节到尽可能最一致的水平,并有助于防止沉积膜的污染。V2000还配备了室内温度控制装置,可以在运行敏感膜沉积过程时进行精确的温度控制。CPA/KURDEX V2000是一种功能强大、精密的溅射机,能够生产各种具有优异性能和精确度的薄膜。其精密的设计、强大的元件和创新的技术使CPA V2000生产各种应用的高品质薄膜的理想选择。
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